应用领域

半导体湿法


半导体湿法蚀刻:涂胶显影设备、清洗系统

1、(DIW)超纯水加热系统


去离子水(DIW)加热系统,所有与液体接触的表面均采用超纯 PVDF/PFA 材料

与液体接触的所有表面均采用超纯 PVDF/PFA 材料 通过 PLC 温度*控制技术、

提供稳定、*的温度输出

功率范围从 40KW 225KW



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